優貝克科技股份有限公司

基本資料

統一編號12362843
公司名稱優貝克科技股份有限公司
成立日期1981/12/31
公司狀況核准設立
資本額498,000,000元
實收資本額498,000,000元
股票代號
電話03-5795688
負責人蔡有哲
地址新竹市光復路二段882號4樓之2
網址 http://www.ulvac.com.tw/
營業項目

    未分類其他機械器具批發(464999)

    電子器材、電子設備批發(464211)

董監事

姓名 職稱 持有股份 代表法人
蔡有哲 董事長 90.00% 日商株式會社 ULVAC
魏雲祥 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
吳東嶸 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
陳慶峰 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
姜志宏 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
黃驀賢 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
黃聖棕 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
岩澤宏明 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
近藤智保 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
衣川正剛 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
岩井隆弥 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
清田淳也 董事 90.00% 日商株式會社 ULVAC
島田鉄也 董事 10.00% 日商ULVAC TECHNO 株式會社
田本広明 監察人 0.00%

標案拒往

機關名稱 公告日期 生效日期 截止日期 期間

同地址公司

公司名稱
瑞擎投資股份有限公司
瑞新投資股份有限公司
棋邦有限公司
取新資訊有限公司
英鉞實業有限公司
瀚豐環保清潔有限公司
鴻威創業投資股份有限公司
融邦輪業有限公司
保承科技有限公司
詠誠科技股份有限公司

勞權違規

日期 違反法規法條 罰鍰金額

動產抵押

案件類別 債務人名稱 債務人統編 契約啟始日期 契約終止日期 抵押權人名稱 抵押權人統編 擔保債權金額

財務報表

選舉收入(政治獻金)

收入名稱 收入金額
總收入金額 0

選舉支出(政治獻金)

支出名稱 支出金額
總支出金額 0

員工人數

存款不足之退票事宜

時間 金額

公司歷程

  • 2013/06/18
    公司負責人變更為本吉光
  • 2014/12/18
    公司地址變更為新竹市光復路二段882號4樓之2
  • 2015/01/09
    資本額變更為498,000,000
  • 2019/07/22
    公司負責人變更為蔡有哲

裁判書查詢

內容 年份
損害賠償 2009
返還擔保金 2006
支付命令 2014, 2020
給付貨款 2009, 2014

進出口資料

總進口實績(美金) 總出口實績(美金)
2024 01-04 500~600萬 50~100萬
2023 01-12 >1000萬 200~300萬
2022 01-12 >1000萬 0~50萬
2021 01-12 >1000萬 0~50萬
2020 01-12 >1000萬 0~50萬

政府標案

標案名稱 機關名稱 決標日期 決標金額 是否得標
脈衝電弧電漿源(含兩源控制器) 行政院原子能委員會核能研究所 109/04/07 2180000.0
熱電性評價裝置 國立臺灣大學 109/12/01 2500000.0
稀釋冷凍器用低溫部0.7K輻射遮檔板 國立交通大學 110/01/26 550000.0
低熔點電容式脈衝電弧電漿源 行政院原子能委員會核能研究所 108/05/28 1980000.0
熱電材料性質變溫量測系統壹組 國立成功大學 111/07/05 3139000.0
氣體分析儀 國立交通大學 108/10/02 450000.0
蝕刻終點偵測感應器 國立交通大學 107/12/24 909300.0
特殊氣體專用之乾式幫浦維修保養 行政院原子能委員會核能研究所 107/10/15 189000.0
製程監控用光譜儀 國立交通大學 107/10/29 1100000.0
熱電性希貝克係數與半導體化合物材料電導率變温量測系統1套 國立中山大學 104/04/22 2574000.0
RoHS 對應桌上型近紅外線高溫型快速昇溫加熱爐主體及直結型油迴轉式真空幫浦 國立中正大學 104/05/05
奈米元件紅外線高溫退火設備一台 國立中興大學 104/08/07
快速退火系統一套 國立交通大學 104/10/06 1920000.0
氦氣測漏儀 國立臺灣大學 104/12/01 539000.0
直流偏壓高電壓輸出含增強型電弧遮斷器電源供應器DC POWER GENERATOR採購案 明道學校財團法人明道大學 104/12/04 600000.0
氦氣測漏儀採購案 明道學校財團法人明道大學 104/12/08 621000.0
電漿輔助與熱阻絲混合式氣相沉積系統CME-200型租賃一式 國立交通大學 103/03/31 1400000.0
電感耦合式電漿蝕刻系統NE950EX設備使用費(租賃) 國立交通大學 103/04/30 500000.0
桌上型紅外線高溫型快速昇溫加熱爐 私立元智大學 103/05/22 225000.0
氦氣測漏儀1台 國立屏東科技大學 103/05/14 580000.0
奈米薄膜元件氣氛及量測爐1套 國立虎尾科技大學 105/05/11 179000.0
小型快速加熱/冷卻系統退火爐1套 國立中山大學 105/04/07 2298000.0
真空排氣系統組 國立聯合大學 106/09/12 260000.0
高溫快速退火爐1台 國立雲林科技大學 106/08/08 322000.0
半導體材料量測設備-快速回火機 國立高雄應用科技大學 106/04/07
電感耦合式電漿蝕刻系統NE950EX設備使用費一式 國立交通大學 102/03/21 999900.0
桌上型高溫爐 國立臺灣大學 102/09/25
分子束磊晶機 國立東華大學 102/10/15 600000.0
感應耦合電漿式活性離子蝕刻系統 1台 國立清華大學 102/12/10
租賃設備電漿輔助與熱阻絲混合式氣相沉積系統CME-200型3個月 國立臺灣科技大學 102/12/27 685000.0

商標

總數量 2
商標名稱

PROLAYER

日真

專利

總數量 25
專利名稱

工序簡化的透明薄膜電晶體的製法

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濺鍍靶材

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具有準直管的蒸鍍裝置

具有溫控準直單元的蒸鍍裝置

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