統一編號 | 27285346 |
公司名稱 | 科毅科技股份有限公司 |
成立日期 | 2004/05/06 |
公司狀況 | 核准設立 |
資本額 | 300,000,000元 |
實收資本額 | 138,585,900元 |
股票代號 | |
電話 | 03-4852036 |
負責人 | 林憲維 |
地址 | 桃園市楊梅區高上里高獅路863巷10號 |
網址 | http://www.mrnanotec.com.tw |
營業項目 |
電子器材、電子設備批發(464211) 電子及半導體生產用機械設備製造(292800) |
姓名 | 職稱 | 持有股份 | 代表法人 |
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林憲維 | 董事長 | 27.86% | 佑創實業有限公司 |
鄧惠玲 | 董事 | 27.86% | 佑創實業有限公司 |
朱有亮 | 董事 | 27.86% | 佑創實業有限公司 |
朱秋好 | 監察人 | 1.28% |
機關名稱 | 公告日期 | 生效日期 | 截止日期 | 期間 |
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公司名稱 |
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日期 | 違反法規法條 | 罰鍰金額 |
---|---|---|
2024/03/05 | 性別平等工作法第13條第2項 |
案件類別 | 債務人名稱 | 債務人統編 | 契約啟始日期 | 契約終止日期 | 抵押權人名稱 | 抵押權人統編 | 擔保債權金額 |
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收入名稱 | 收入金額 |
---|---|
總收入金額 | 0 |
支出名稱 | 支出金額 |
---|---|
總支出金額 | 0 |
時間 | 金額 |
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內容 | 年份 |
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給付貨款 | 2017 |
損害賠償等 | 2023 |
給付買賣價金 | 2016 |
確定訴訟費用額 | 2018, 2019 |
公示送達 | 2021 |
損害賠償 | 2017, 2018 |
支付命令 | 2015, 2016, 2021 |
本票裁定 | 2021 |
清償債務 | 2013 |
給付貨款 | 2017 |
聲明異議 | 2022 |
返還提存物 | 2016 |
停止強制執行 | 2015, 2018 |
給付買賣價金 | 2011, 2018, 2019 |
假扣押聲明異議 | 2022 |
債務人異議之訴 | 2015, 2018 |
年 | 月 | 總進口實績(美金) | 總出口實績(美金) |
---|---|---|---|
2024 | 01-04 | 0~50萬 | 0~50萬 |
2023 | 01-12 | 0~50萬 | 200~300萬 |
2022 | 01-12 | 0~50萬 | 0~50萬 |
2021 | 01-12 | 0~50萬 | 0~50萬 |
2020 | 01-12 | 100~200萬 | 50~100萬 |
標案名稱 | 機關名稱 | 決標日期 | 決標金額 | 是否得標 |
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電源供應器 | 國立臺灣大學 | 109/03/23 | 218190.0 | 是 |
紫外光曝光系統1台 | 國立雲林科技大學 | 110/06/01 | 369000.0 | 是 |
半導體工程系曝光機維修案 | 國立高雄科技大學 | 110/10/18 | 590000.0 | 是 |
曝光機升級套件 M&R AG500-SLC 圖號:1110922 共1ST | 私立明志科技大學 | 112/01/11 | 1309000.0 | 是 |
半導體學院廠務人才培育基地教學設備1批 | 明新學校財團法人明新科技大學 | 112/04/27 | 12050000.0 | 是 |
光罩對準曝光機一套 | 國立陽明交通大學 | 112/09/18 | 否 | |
手動曝光機 | 行政院原子能委員會核能研究所 | 105/12/20 | 否 | |
B112000135半導體工程系-採購對位式曝光機 | 龍華科技大學 | 112/08/07 | 否 | |
光罩對準曝光機一台 | 國立交通大學 | 108/07/16 | 4900000.0 | 是 |
光罩對準曝光機(背面對準系統擴充) | 國立陽明交通大學 | 111/03/18 | 1210000.0 | 是 |
小型PCB製程設備 (簡易曝光機) | 國立清華大學 | 108/06/21 | 495000.0 | 是 |
微影曝光機組一組 | 國立臺灣科技大學 | 108/11/05 | 715000.0 | 是 |
B104000011簡易曝光機 | 私立龍華科技大學 | 104/03/24 | 570000.0 | 是 |
桌上型簡易曝光機 | 國立中正大學 | 104/03/31 | 570000.0 | 是 |
抽氣式藥品櫃4座 | 國立中興大學 | 104/05/26 | 否 | |
曝光機與旋轉塗佈機採購 | 國立高雄海洋科技大學 | 104/09/17 | 910000.0 | 是 |
曝光機之對位系統(含微控定位台修改與對準CCD系統) | 國立臺灣大學 | 103/04/01 | 370000.0 | 是 |
深紫外光曝光機組1台 | 國立雲林科技大學 | 105/09/08 | 350000.0 | 是 |
光罩對準儀 詳規範 共1ST | 私立長庚大學 | 105/03/31 | 1890000.0 | 是 |
單面對準曝光機 | 國立臺灣大學 | 103/12/26 | 900000.0 | 是 |
半導體學院白光干涉儀1台 | 明新學校財團法人明新科技大學 | 112/11/01 | 2390000.0 | 是 |
旋轉塗佈機 | 國立臺灣大學 | 112/12/12 | 515000.0 | 是 |
黃光對準曝光機 | 國立清華大學 | 102/08/07 | 1525000.0 | 是 |
曝光機光源模組、晶片光罩結合馬達定位與教學模組採購案 | 國立高雄科技大學 | 113/06/04 | 8100000.0 | 是 |
總數量 | 3 |
商標名稱 |
M & R |
總數量 | 23 |
專利名稱 |
下對位之晶元曝光機 晶圓曝光機 晶圓膠膜移除裝置 曝光機之晶圓邊緣與光罩間之楔形誤差補償的水平與俯仰角自動整平機構 具有同軸光源部之輔助對位裝置 曝光機之萬向定位裝置之整平機構 曝光機之晶圓邊緣與光罩間之楔形誤差補償的水平與俯仰角自動整平機構 光罩清潔設備及光罩清潔方法 旋轉同步尋邊表面清洗裝置 塗佈機的晶圓定位裝置 |
來源 | 日期 | 內容 |
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如需更多資訊,請聯絡我們: owenschen@syncace.co
地區 | 數量 |
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桃園市_生產中 | 1 |
總數量 | 1 |
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