科毅科技股份有限公司

基本資料

統一編號27285346
公司名稱科毅科技股份有限公司
成立日期2004/05/06
公司狀況核准設立
資本額300,000,000元
實收資本額138,585,900元
股票代號
電話03-4852036
負責人林憲維
地址桃園市楊梅區高上里高獅路863巷10號
網址 http://www.mrnanotec.com.tw
營業項目

    電子器材、電子設備批發(464211)

    電子及半導體生產用機械設備製造(292800)

董監事

姓名 職稱 持有股份 代表法人
林憲維 董事長 27.86% 佑創實業有限公司
鄧惠玲 董事 27.86% 佑創實業有限公司
朱有亮 董事 27.86% 佑創實業有限公司
朱秋好 監察人 1.28%

標案拒往

機關名稱 公告日期 生效日期 截止日期 期間

同地址公司

公司名稱

勞權違規

日期 違反法規法條 罰鍰金額
2024/03/05 性別平等工作法第13條第2項

動產抵押

案件類別 債務人名稱 債務人統編 契約啟始日期 契約終止日期 抵押權人名稱 抵押權人統編 擔保債權金額

財務報表

選舉收入(政治獻金)

收入名稱 收入金額
總收入金額 0

選舉支出(政治獻金)

支出名稱 支出金額
總支出金額 0

員工人數

存款不足之退票事宜

時間 金額

公司歷程

  • 2014/01/17
    公司地址變更為桃園市楊梅區高上里高獅路863巷10號
  • 2014/01/17
    資本額變更為45,870,420
  • 2015/06/17
    公司負責人變更為林憲維
  • 2015/12/21
    資本額變更為60,000,000
  • 2016/10/05
    資本額變更為63,000,000
  • 2017/06/23
    資本額變更為67,120,000
  • 2018/12/21
    資本額變更為150,000,000
  • 2020/07/08
    資本額變更為300,000,000

裁判書查詢

內容 年份
給付貨款 2017
損害賠償等 2023
給付買賣價金 2016
確定訴訟費用額 2018, 2019
公示送達 2021
損害賠償 2017, 2018
支付命令 2015, 2016, 2021
本票裁定 2021
清償債務 2013
給付貨款 2017
聲明異議 2022
返還提存物 2016
停止強制執行 2015, 2018
給付買賣價金 2011, 2018, 2019
假扣押聲明異議 2022
債務人異議之訴 2015, 2018

進出口資料

總進口實績(美金) 總出口實績(美金)
2024 01-04 0~50萬 0~50萬
2023 01-12 0~50萬 200~300萬
2022 01-12 0~50萬 0~50萬
2021 01-12 0~50萬 0~50萬
2020 01-12 100~200萬 50~100萬

政府標案

標案名稱 機關名稱 決標日期 決標金額 是否得標
電源供應器 國立臺灣大學 109/03/23 218190.0
紫外光曝光系統1台 國立雲林科技大學 110/06/01 369000.0
半導體工程系曝光機維修案 國立高雄科技大學 110/10/18 590000.0
曝光機升級套件 M&R AG500-SLC 圖號:1110922 共1ST 私立明志科技大學 112/01/11 1309000.0
半導體學院廠務人才培育基地教學設備1批 明新學校財團法人明新科技大學 112/04/27 12050000.0
光罩對準曝光機一套 國立陽明交通大學 112/09/18
手動曝光機 行政院原子能委員會核能研究所 105/12/20
B112000135半導體工程系-採購對位式曝光機 龍華科技大學 112/08/07
光罩對準曝光機一台 國立交通大學 108/07/16 4900000.0
光罩對準曝光機(背面對準系統擴充) 國立陽明交通大學 111/03/18 1210000.0
小型PCB製程設備 (簡易曝光機) 國立清華大學 108/06/21 495000.0
微影曝光機組一組 國立臺灣科技大學 108/11/05 715000.0
B104000011簡易曝光機 私立龍華科技大學 104/03/24 570000.0
桌上型簡易曝光機 國立中正大學 104/03/31 570000.0
抽氣式藥品櫃4座 國立中興大學 104/05/26
曝光機與旋轉塗佈機採購 國立高雄海洋科技大學 104/09/17 910000.0
曝光機之對位系統(含微控定位台修改與對準CCD系統) 國立臺灣大學 103/04/01 370000.0
深紫外光曝光機組1台 國立雲林科技大學 105/09/08 350000.0
光罩對準儀 詳規範 共1ST 私立長庚大學 105/03/31 1890000.0
單面對準曝光機 國立臺灣大學 103/12/26 900000.0
半導體學院白光干涉儀1台 明新學校財團法人明新科技大學 112/11/01 2390000.0
旋轉塗佈機 國立臺灣大學 112/12/12 515000.0
黃光對準曝光機 國立清華大學 102/08/07 1525000.0
曝光機光源模組、晶片光罩結合馬達定位與教學模組採購案 國立高雄科技大學 113/06/04 8100000.0

商標

總數量 3
商標名稱

M & R

專利

總數量 23
專利名稱

下對位之晶元曝光機

晶圓曝光機

晶圓膠膜移除裝置

曝光機之晶圓邊緣與光罩間之楔形誤差補償的水平與俯仰角自動整平機構

具有同軸光源部之輔助對位裝置

曝光機之萬向定位裝置之整平機構

曝光機之晶圓邊緣與光罩間之楔形誤差補償的水平與俯仰角自動整平機構

光罩清潔設備及光罩清潔方法

旋轉同步尋邊表面清洗裝置

塗佈機的晶圓定位裝置

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