矽碁科技股份有限公司

基本資料

統一編號80256427
公司名稱矽碁科技股份有限公司
成立日期2002/09/23
公司狀況核准設立
資本額40,000,000元
實收資本額40,000,000元
股票代號
電話886-3-559-0169
負責人吳學憲
地址新竹縣湖口鄉鳳山村鳳工路67號
網址 http://www.syskey.com.tw
營業項目

    電子器材、電子設備批發(464211)

    實驗設備批發(464918)

    系統整合(620211)

    其他輸送機械設備製造(293599)

董監事

姓名 職稱 持有股份 代表法人
吳學憲 董事長 55.45%
詹志遠 董事 10.00%
薛雅芬 董事 10.00%
張傑嵐 監察人 14.55%

標案拒往

機關名稱 公告日期 生效日期 截止日期 期間

同地址公司

公司名稱

勞權違規

日期 違反法規法條 罰鍰金額

動產抵押

案件類別 債務人名稱 債務人統編 契約啟始日期 契約終止日期 抵押權人名稱 抵押權人統編 擔保債權金額

財務報表

選舉收入(政治獻金)

收入名稱 收入金額
總收入金額 0

選舉支出(政治獻金)

支出名稱 支出金額
總支出金額 0

員工人數

存款不足之退票事宜

時間 金額

公司歷程

  • 2011/09/23
    公司負責人變更為吳學憲
  • 2013/09/06
    資本額變更為20,000,000
  • 2022/03/11
    資本額變更為40,000,000
  • 2024/05/03
    公司地址變更為新竹縣湖口鄉鳳山村鳳工路67號

裁判書查詢

內容 年份
聲明異議 2023
給付工程款 2022

進出口資料

總進口實績(美金) 總出口實績(美金)
2024 01-04 0~50萬 100~200萬
2023 01-12 0~50萬 200~300萬
2022 01-12 0~50萬 200~300萬
2021 01-12 0~50萬 100~200萬
2020 01-12 0~50萬 100~200萬

政府標案

標案名稱 機關名稱 決標日期 決標金額 是否得標
濺鍍設備擴充射頻電源裝置一套 台灣中油股份有限公司 109/05/21 584800.0
無機/有機粉末型高真空蒸鍍系統 詳規範:109SYSKEY01 共1ST 私立明志科技大學 109/06/05 4550000.0
濺鍍設備擴充高磁性濺鍍槍一套 台灣中油股份有限公司 111/02/11 569000.0
濺鍍機維修 國立聯合大學 108/07/30 226000.0
超高真空金屬/有機功能性薄膜蒸鍍系統 詳規範:108SYSKEY01 1/ST 私立明志科技大學 108/03/26 3585750.0
濺鍍機機台檢測修復 國立聯合大學 107/10/31 550000.0
後段ALD介電膜系統 財團法人國家實驗研究院奈米元件實驗室 104/04/17 4880000.0
電漿式原子級薄膜沉積系統(有機發光二極體薄膜封膜製程)詳規範 共1ST 私立明志科技大學 104/07/08 2540000.0
真空濺鍍設備配件一批 台灣中油股份有限公司 104/08/25
氧電漿清洗機 私立元智大學 104/09/22 600000.0
電漿輔助硒化設備耗材配件-石英內管一批 台灣中油股份有限公司 104/10/27 27000.0
電漿輔助原子層沉積系統一套 國立交通大學 103/05/13 2450000.0
銅銦鎵硒(CIGS)太陽電池真空濺鍍實驗設備一批 台灣中油股份有限公司 103/07/04 8952300.0
有機發光二極體用濺鍍系統(連接原有機發光二極體製程系統)詳規範:OLEDWSS 共1ST 私立明志科技大學 103/07/08 2899000.0
CIGS電漿輔助硒化實驗設備一批 台灣中油股份有限公司 103/08/29 5460000.0
雙靶隔艙壓力變壓機制/1套 國立中興大學 103/10/16 866000.0
電子束蒸鍍機一批 台灣中油股份有限公司 105/06/03
多腔式真空鍍膜設備製作 行政院原子能委員會核能研究所 106/06/19
擴充原子層磊晶組件為多通道系統 國立交通大學 106/11/21 140000.0
CVD設備高功率放大器及反應器檢修 國立交通大學 102/02/05 520000.0
共蒸鍍暨膜厚量測機台 行政院原子能委員會核能研究所 102/02/05
6 吋矽基板氮化鎵磊晶片10片 國立交通大學 102/02/22 810000.0
電漿輔助原子層化學氣相沉積系統 國立中山大學 102/02/27 3400000.0
原子層沈積系統樣品加熱器損毀,維修及安裝 國家同步輻射研究中心 102/05/06 185200.0
成長氧化物奈米結構設備擴充自動設備 國家同步輻射研究中心 102/10/14 546000.0

商標

總數量 1
商標名稱

SYSKEY

專利

總數量 12
專利名稱

多腔室半導體製程系統

多腔室半導體製程系統

原子層沉積系統

原子層沉積系統

多腔室處理系統之機座之部分

微型化半導體製程系統

多腔室半導體製程系統

微型化半導體製程系統

微型化半導體製程裝置之部分

微型化半導體製程系統

相關新聞

來源 日期 內容

如需更多資訊,請聯絡我們: owenschen@syncace.co

工廠

地區 數量
新竹縣_生產中 1
總數量 1

重大訊息

如需更多資訊,請聯絡我們: owenschen@syncace.co

地圖